通過粉末粒度與工藝參數的調整，可以將Al2〇3涂層的孔隙率降低到百分之幾的程度，進一步降低孔隙率需要通過加入Ti〇2，Y2〇3等進行，等離子噴涂常用的添加Ti〇2的Al2〇3-TiO2粉末成分有Al2〇3-2.5%Ti〇2，Al2〇3-13Ti02與Al203-40Ti〇2三種。但如圖11所示，添加Ti〇2后涂層的耐磨損性能比純A1203與Ti02都高，其原因認為是由于涂層的高的熱導率造成的。

純的Ti〇2涂層孔隙率低，加工后表面粗糙度值低，具有較低的摩擦因數。

Ti〇2呈現n型半導體特征，禁帶寬度為3.2eV，當受到紫外光照射時，產生電子空穴對，具有光催化效應，基于該效應可以實現水的光分解、有機污染物的降解等。而這種效應與涂層的晶體結構的組成有關。一般Ti〇2可呈現金紅石結構，銳鈦礦結構與板鈦礦結構，金紅石為穩定結構，其他兩種結構的HQ加熱到600～900℃時將轉變為金紅石結構。

常用的熱噴涂Ti〇2粉末為金紅石結構，而噴涂后則會在涂層中出現少量的銳鈦礦結構相。當高溫的等離子具有較強的還原性時，Ti〇2將發生脫氧現象，生成非化學計量的馬格奈里相（Magneli)TinO2n-1(n>3)(圖14)。脫氧后的Ti〇2呈現一定的導電性，且導電性能隨脫氧量的增加而增加。